ЭКСПАНДИРОВАНИЕ
{< ан глагол expand < лат. expandere - распространять, разъяснять} - инфинитив преобразование компрессированного речевого сигнала, приводящее к восстановлению разборчивой речи на основе содержащейся в компрессированном сигнале информации (информация). См. вокодер.
(Источник: «Словарь иностранных слов». Комлев Н.Г., 2др.- еврейское и т. п. др.- еврейское и т. п. 6)
... экспонирования При недостаточной дозе могут возникнуть проблемы с проявлением фоторезиста , а. чрезмерное экспонирование может вызвать повреждения пленки фоторезиста От мощностных параметров зависит производительность ... ... фотошаблон экспонируется на пластину многократно с. помощью перемещения экспонируемой поверхности Основными параметрами экспонирования являются длина волны , время экспонирования и мощность . источника излучения Как правило ... (Конструирование и проектирование электронной аппаратуры)
... новые средства контроля и измерения . Множественное формирование рисунка - Multiple patterning ( множественное экспонирование ). Метод использования для увеличения количества структур , которые могут содержать микрочип . Множественное ... ... литографической экспозиции может быть недостаточно для достаточного . разрешения Следовательно , потребуются дополнительные экспонирования , или же использование шаблона с использованием . боковых стенок с вытравленными элементами Различные методы ... (Конструирование и проектирование электронной аппаратуры)
... метод заключается в ориентации фотошаблона по двум базовым плоскостям . или двум цилиндрическим поверхностям Экспонирование фоторезиста осуществляют контактным и проекционным способами Проявление фоторезиста заключается в удалении с поверхности ... ... адгезионного подслоя . и пленка основного функционального слоя ;. Нанесение фоторезиста на сформированный слой ;. Экспонирование и проявление фоторезиста ;. Химическое травление осажденного основного функционального покрытия ;. Удаление фоторезиста ... (Конструирование и проектирование электронной аппаратуры)
... . пучка •Электронно-лучевая литография - метод изготовления субмикронных и наноразмерных топологических элементов посредством . экспонирования электрически чувствительных поверхностей электронным лучом •Метод схож с фотолитографией , но использует электроны ... ... взаимодействие . электронов с веществом , их упругое и неупругое рассеяние (рис Таким образом , доза экспонирования одного участка пластины воздействует на процесс . экспонирования соседних областей , что приводит к размытию ... (Конструирование и проектирование электронной аппаратуры)
... Рентгеновская литография - технология изготовления электронных микросхем ; вариант фотолитографии , использующий экспонирование . (облучение ) резиста с помощью рентгеновских лучей Рентгеновская литография использует мягкое рентгеновское ... ... (генерируемые оже - и первичными фотоэлектронами и превосходящие их. по численности ) являются основными агентами сопротивления экспонированию Относительные пробеги первичных фотоэлектронов и оже-электронов зависят от их соответствующих . энергий Эти энергии ... (Конструирование и проектирование электронной аппаратуры)
... принцип создания изображений - такой же ., как в копировальных аппаратах Различие состояло в способе экспонирования : в копировальных аппаратах оно происходит . с помощью лампы , а в лазерных принтерах свет лампы заменил ... ... четырехгранной или шестигранной формы ), этот. луч засвечивает поверхность фотобарабана , снимая ее заряд в точке экспонирования Для получения точечного изображения лазер включается и выключается при помощи. управляющего микроконтроллера Вращающееся ... (электромеханические устройства электронных аппаратов)
Комментарии
Оставить комментарий