1. Разговорное, То же, что: литограф.
-а, м. Разг.
То же, что литограф.
... ). Она может быть либо контактной (непосредственное воздействие ), либо токовой •Силовая литография (гравировка ) основана на непосредственном механическом воздействии остроконечного зонда . на поверхность подложки •Силовая ... ... ;. - АСМ силовая литография (наногравировка и наночеканка );. - Другие специфические виды (электростатическая зарядовая литография , литография с помощью зонда . ближнепольного оптического микроскопа и др ) Нанолитография с помощью СЗМ ... (Конструирование и проектирование электронной аппаратуры)
... Система управления при этом работает на частотах в несколько мегагерц . Рис проекционный способ элктронной литографии •Электронная литография или электронно-лучевая литография - метод литографии с использованием электронного . пучка •Электронно-лучевая ... ... •Электронная литография или электронно-лучевая литография - метод литографии с использованием электронного . пучка •Электронно-лучевая литография - метод изготовления субмикронных и наноразмерных топологических элементов посредством . экспонирования электрически чувствительных ... (Конструирование и проектирование электронной аппаратуры)
... В процессе электроосаждения , окна в фоторезисте используются для осаждения в. них материала из электролита Напыление Обратная литография В случаях , когда требуется получить рисунок из материала плохо подвергающегося . травлению , используют ... ... рисунок с фотошаблона переносится на фоторезист с использованием системы .оптических линз В некоторых вариантах литографии , маска может находиться в контакте с. фоторезистом , или в непосредственной близости , при наличии микрозазора Существуют ... (Конструирование и проектирование электронной аппаратуры)
... лучей ,.обычно из карбида кремния или алмаза . Рисунок на маске наносится методом электронной литографии с прямой записью . на резист , который создается с помощью обычных полупроводниковых процессов Мембрану ... ... линии предположительно имеет статистическое происхождение и лишь косвенно . зависит от среднего диапазона В обычных условиях литографии можно контролировать и использовать различные диапазоны . электронов Заряды Рентгеновские лучи не ... (Конструирование и проектирование электронной аппаратуры)
... на подложку •Запись изображения производится перемещением подложки относительно оптических ловушек двухфотонная литография ... (Конструирование и проектирование электронной аппаратуры)
... формирования рисунка с локальным воздействием сфокусированным электронным , ионным или лазерным лучом , интерференционной литографии и механической “наноштамповки ” полимерных пленок , включая . резистные , и металлических пленок (метод наноштамповки ... ... пленок , включая . резистные , и металлических пленок (метод наноштамповки получил название “наноимпринтная литография ”). Сделаны попытки организовать процессы самосборки метаматериалов , как это уже реализовано в отношении фотонных ... (Конструирование и проектирование электронной аппаратуры)
Комментарии
Оставить комментарий